Universal-300 Dual是根据中高端市场需求开发的先进12英寸CMP设备，具有四个抛光单元和双清洗单元，可以满足28~65nm逻辑芯片以及2xnm存储芯片Oxide/SiN/STI/Poly/Cu/W CMP等各种工艺需求。