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      5月16日,由集成电路产业技术创新联盟举办的2020集成电路产业链协同创新发展交流会在北京召开。在备受瞩目的第三届IC创新奖的颁奖环节,华海清科凭借“12英寸Dual系列化学机械抛光(CMP)设备”项目斩获“技术创新奖”殊荣。

 

      据悉,集成电路产业技术创新联盟以国家战略为指引,围绕提升产业核心竞争力,推动产业链上下游紧密协作,而设立了技术创新奖,以表彰在集成电路领域技术创新和关键技术开发方面取得重大突破的单位。目前,华海清科多台CMP设备应用于国内集成电路大生产线,得到客户的广泛认可,为我国IC产业自主可控发展做出重要贡献。此次获奖,也是对公司长期以来,孜孜不倦地坚持技术创新和关键技术研发给予的肯定与表彰。