Tianjin, China    sales@hwatsing.com    +86 02259781212

        我公司“极大规模集成电路制造装备及套工艺”专项 “28-14nm抛光设备及工艺、配套材料产业化”的项目预算书及任务合同书的编制工作已于近期顺利完成。目前整体项目预算已经完成提交,正在等待有关部门的批复。

 

        我公司是目前国内唯一一家研发生产300mm(12英寸)大规模集成电路化学机械抛光设备的公司,在超低下压力化学机械抛光系统研制及工艺开发方面达到了国际先进水平。


        “02专项”来源于在国务院颁布的《国家中长期科学和技术发展规划纲要(2006-2020)》。规划纲要列出了16个重大科技专项,包括大飞机、载人航天与探月工程等,每一个都是事关国家中长期科技发展的战略性项目,其中“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”因为其编号为02而被称为“02专项”。


        化学机械抛光是集成电路制造工艺中的五大关键技术之一。在02专项的支持下,在光刻、刻蚀、离子注入、薄膜沉积等方面取得了重大进展,但在CMP整机设备与成套工艺方面尚有欠缺。因此,本次专项布局了“45-14nm抛光设备及工艺、配套材料产业化”项目,不仅可以使前期02专项课题的阶段性成果得以应用和完善,而且将在整个02专项中形成完整的核心技术链,具有深远的意义。


        我公司参与了02专项“45-14nm抛光设备及工艺、配套材料产业化”项目的申报工作,并于9月24日完成了专项申请答辩,得到了评委专家的一致好评。

 

        2015年4月21日,天津市财政投资管理中心主任贾鸿潜一行领导来到我公司进行调研。公司董事长、清华大学教授路新春等公司领导接待了贾主任一行。


        贾鸿潜主任参观了研发车间,观摩了我公司自主研发的CMP机台及检测设备,认真的听取了公司当前的整体发展情况及研发进度,对公司在短时间内取得的成绩表示赞赏。


        随后,贾主任一行来到会议室,听取了公司近期的财务状况和“02专项”的申请及审批工作的说明,并同我公司领导就其财务及专项的相关问题交换了意见,也和大家分享了许多宝贵的经验。